Технологию синтеза высококачественных графеновых структур для гибкой и прозрачной электроники запатентовали российские разработчики.
Развитию графеновых технологий уже долгое время мешает отсутствие технологии для создания крупных листов этого материала без разрывов, складок и других дефектов.
Как сообщили в пресс-службе "Сколтеха", разработанный специалистами вуза метод предполагает заранее формировать временную подложку для нанесения графена в виде будущего устройства. Затем с противоположной стороны наносится постоянная подложка, а временная удаляется.
Такой подход позволяет сохранить графеновый слой нужной формы неповрежденным. Внедрение этой технологии позволит создавать компоненты для гибкой и прозрачной электроники, в том числе на российской компонентной базе.
